查特杜瓦瓶杜瓦罐的5大(dà)類主要應用

查特杜瓦瓶杜瓦罐的5大(dà)類主要應用說明(míng)：

1 激光切割，查特杜瓦瓶配套激光切割機，為(wèi)激光切割機供應的切割碳鋼用的氧氣，一般使用杜瓦瓶儲存大(dà)量的液氧，純度高(gāo)于99.5%，還(hái)有(yǒu)切割不鏽鋼使用的高(gāo)純氮氣，需要使用查特杜瓦瓶儲存大(dà)量的液氮，再通(tōng)過汽化器(qì)汽化使用。一般出口壓力要求1-2mpa的壓力。激光切割機是大(dà)量消耗液氮液氧的設備，需要根據氣體(tǐ)消耗量選用适合的杜瓦瓶。

2 液質聯用儀，查特杜瓦瓶配套液質聯用儀，一般選用180MP 或者200MP 型，儀器(qì)使用霧化氣和(hé)幹燥氣，壓力一般0.8mpa左右。根據儀器(qì)使用頻率和(hé)消耗量選用不同型号的查特杜瓦瓶，另外使用液氩作(zuò)為(wèi)碰撞氣的也有(yǒu)選用杜瓦瓶充裝液體(tǐ)使用的。

3 真空(kōng)鍍膜機，查特杜瓦瓶為(wèi)真空(kōng)鍍膜機提供所需的氮氣沖入，排除內(nèi)部氧氣。讓真空(kōng)鍍膜機內(nèi)部氮氣壓力保持在0.5mpa左右。需要持續吹入0.5mpa左右的氮氣。真空(kōng)鍍膜機氮氣

為(wèi)真空(kōng)鍍膜機大(dà)量供應氮氣，并保持穩定壓力，應使用常規的液态杜瓦瓶供應，杜瓦瓶內(nèi)部裝有(yǒu)液态氮氣，配置汽化系統及減壓裝置，調壓出來(lái)氣體(tǐ)符合真空(kōng)鍍膜機的使用，符合大(dà)量應用氮氣并穩定壓力和(hé)流量的氮氣氣體(tǐ)應用。一般杜瓦瓶選用180MP規格或者200MP規格，出口安裝氮氣減壓閥，使用氣體(tǐ)量大(dà)的客戶可(kě)選用MC450MP。

4 核磁共振儀 低(dī)壓罐，核磁共振儀是需要使用230LP型低(dī)壓補液罐來(lái)作(zuò)為(wèi)低(dī)壓補液，補充低(dī)壓液氮使用的，壓力可(kě)達到22psi，給核磁共振儀補充液氮，配置有(yǒu)沖液軟管，一罐液體(tǐ)可(kě)夠核磁共振儀沖液幾次使用的。

5 程序降溫儀 程序降溫儀的降溫需要查特杜瓦瓶的低(dī)壓杜瓦瓶230LP型補液型杜瓦瓶配套使用，為(wèi)其做(zuò)補液罐體(tǐ)，保證程序降溫儀內(nèi)部的超低(dī)溫運行(xíng)，壓力不超過22psi。低(dī)壓補液是低(dī)消耗和(hé)平穩供給的結合産品。230LP型查特杜瓦瓶是低(dī)壓補液的典型應用産品

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